贴片电感
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瑞申型号 感值±20% (µH) 直流阻抗(mΩ) 自协频率MHZ 温升电流(A) 饱和电流(A) 对应线艺规格
标准 最大 上升20° 上升40°
RSAL1580-R40M 0.4uh 0.5 0.7 53.0  47.0  60.0  111.0  XAL1580-401ME
RSAL1580-R74M 0.74uh 0.72 0.86 35.1  43.2  59.7  86.0  XAL1580-741ME
RSAL1580-1R0M 1uh 0.93 1.12 30.0  40.6  57.5  73.5  XAL1580-102ME
RSAL1580-1R3M 1.3uh 1.15 1.38 26.2  34.6  46.7  65.0  XAL1580-132ME
RSAL1580-1R8M 1.8uh 1.61 1.93 21.3  33.2  43.8  57.0  XAL1580-182ME
RSAL1580-2R0M 2uh 1.91 2.29 20.1  29.5  39.9  51.0  XAL1580-202ME
RSAL1580-3R0M 3uh 2.62 3.10  16.0  25.6  34.4  43.0  XAL1580-302ME
RSAL1580-4R5M 4.5uh 3.82 4.58 12.5  20.4  27.0  34.2  XAL1580-452ME
RSAL1580-5R3M 5.3uh 4.35 5.22 11.8  19.5  26.5  33.0  XAL1580-532ME
RSAL1580-6R1M 6.1uh 5.66 6.79 11.7  16.9  22.6  31.0 XAL1580-612ME

 

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惰性气体(氦气、氖气及氙气)可作为添加气加至氩气等离子体中,或可以单独使用。虽然使用这些气体可获得某些效果,但成本比氩气等离子体更高,因此并未广泛使用。氩气等离子中,样品于氩气之间形成多种干扰离子,如ArO+对Fe,ArCl+对As及Se,Ar2+对Se,ArNa+对Cu等。若使用其他种类气体,则可避免此类干扰。惰性气体中使用最多的是氦气[9]。除具有较少干扰外,还具有其他优势,如更高的电离能(24.59eV,而氩气等离子电离能为15.76eV)。更高的电离能意味着在氩气等离子中难电离的元素(如卤素、磷、硫等)在氦气等离子中电离效率更高,从而使灵敏度提高。需注意的是,商用ICP-MS使用氩气进行优化,使用氦气时则需调整射频发生器/射频匹配电路,才能获得稳定等离子。

Montaser及其合作者首次报道了使用氦气作为电离源进行质谱分析[10]。Iacone及其合作者报道了只使用氦气为电离源,功率为500~1000W,流量较小,为10L·min-1[11]。报道称,使用高速视频成像技术,氦气放电频率为80~250Hz,且频率大小取决于前置功率。检出限在10-12数量级。同时指出,扁平线圈某些氦气等离子中,传统的三匝铜线圈无法维持稳定等离子。

Iacone等人描述了使用14.5匝线圈形成自由氦气等离子[12]。文章介绍了将商用射频发生器改装后能够用于氦气等离子。低压等离子通常使用氦气为等离子气。Rosenkranz等人使用纯氦气等离子测得原子质谱(功率9~12W)及分子质谱(功率5W)[13]。同时研究了使用其他气体(甲烷、正丁烷及氨气)辅助电离的情况。文献[14]报道了氖气等离子与激光烧蚀(LA)连用ICP-MS分析固态矿物标准样品,通常情况下,氖气等离子中元素灵敏度比氩气等离子低,但成功地降低了大多数离子干扰,如分析大电流电感硫化铜矿时63Cu40Ar+及65Cu40Ar+对103Rh+及105Pd+的干扰,硫化镍矿时58Ni40Ar+及60Ni40Ar+对98Ru+及100Ru+。

作者同时指出与氩气等离子相比,氖气等离子工作参数变化明显,且雾化气流量变化最为明显。Houk等人在雾化气中加入氙气,成功地降低了多原子离子干扰[15]。加入的氙气流量只需10~37mL·min-1即可降低N+2、HN+2、ClO+、ArN+及ArO+造成的干扰,因此可测定Si、K、V、Cr及Fe等元素。同时研究了大功率电感氙气相关机理,表示雾化气中加入1.5%氙气有助于Fe的电离。为解释此现象,提出了Xe+与中性Fe原子之间电荷转移机理[16]。