贴片电感
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如何在集成电路中减少天线效应
作者:    来源:    时间:2017-01-22 10:10:23浏览量:

充电损伤的程度是一个几何函数,与极密栅线天线相关。但是由于刻蚀率的差异反映出的刻蚀延迟、等离子灰化和氧化沉积以及等离子诱导损伤(PID)的原因,使得充电损伤更容易受到电子屏蔽效应的影响。




因此,天线效应的新模式需要考虑刻蚀时间的因素,如公式1。而通过插入二极管或桥(布线)控制天线效应,可以更好地预测天线效应,如公式2所示。



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